羅門哈斯電子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技術事業部（CMP Technologies）宣佈，其新型化學機械研磨墊表面溝槽設計能夠減少缺陷和研磨液的用量，現已迅速得到全球各地市場的認可。全球各地的客戶現在開始採用這些能顯著改善工藝性能的新型表面溝槽設計，以降低缺陷，延長研磨墊的使用壽命，減少化學機械研磨易耗品的總體成本。

羅門哈斯這種能減少缺陷的表面溝槽設計已得到歐洲、韓國、北美、臺灣地區客戶的認可，大批量投入生產。該設計方案現已應用於羅門哈斯90奈米製程節點及更精密節點的IC1000 AT化學機械研磨墊，多家客戶目前還在VisionPad系列化學機械研磨墊上測試這款能夠減少缺陷的表面溝槽設計方案。

同時，該公司最近推出的能減少研磨液用量的表面溝槽設計也引發了市場的濃厚興趣，多家客戶現在已經開始對此進行測試。台灣積體電路製造商和其他客戶的測試結果符合預期目標，研磨液消耗量減少了30％，但研磨性能依然優異。

這個能夠減少缺陷的表面溝槽設計的創新特色就是面積不變的螺旋圖樣，已針對晶圓規模和表面溝槽規模的流體力學進行了優化。這一設計方案有效消除了晶圓上的局部壓力，最大限度減少了刮痕和缺陷，缺陷率最多可降低50％。

另一款表面溝槽設計以專門的流動試驗和計算流體模型為基礎，能夠減少研磨液用量，使金屬工藝中易耗品的成本減少30％以上。要想達到這樣的性能，就得讓更多研磨液到達晶圓的前緣，提高研磨墊和晶圓之間空隙內研磨液的利用率，並在給定的研磨去除率條件下降低對研磨液流速的要求。

羅門哈斯新型表面溝槽設計可用於各類VisionPad和IC1000 AT墊產品，還可根據客戶要求和現有易耗品裝置或在理想的製程條件下進行定制。化學機械研磨技術事業部全球團隊與客戶緊密合作，為每套工藝尋找最優的表面溝槽設計和研磨墊產品。