Evonik攜手工研院推動面板產業鍍膜技術

德國化學技術廠商贏創（Evonik Industries AG）日前來臺與工研院技術合作，在新竹成立該公司在全球第一座應用技術中心（Application Technology Center，簡稱ATC），以推動面板產業導入鍍膜技術。適逢本文前去德國紐倫堡（Nuremberg）採訪「SENSOR+TEST 2014」（感測與檢測展），特此受贏創之邀前往位在德國馬爾（Marl）化學工業園區的研發實驗室，為讀者帶來第一手的報導。

贏創ATC結合工研院的資源與產業力量

贏創公司電子解決方案事業部副總裁Ralf Anselmann博士指出，該公司的前身德固薩（Degussa AG），最早成立於一八七三年，並陸續和成立於一八四七年的高施密特（Goldschmidt）、一九○八年的斯卡維（SKW）、一九三八年的赫斯（Huls）等化學大廠合併，在二○○七年以贏創（Evonik）為品牌之後，積極進入更多新興的化學應用領域。目前全球員工有三萬三千多人，二○一三年的營業額約為一百廿七億歐元。而這次和工研院合作成立的ATC，就是要積極推動具有下一代顯示器產業典範實力的液態塗佈（solution coating）鍍膜技術，並透過此中心就近服務臺灣與亞洲的客戶。

工研院顯示中心副主任李正中博士在接受本文專訪時表示，兩年前工研院就已經和贏創在照明電子方面有所合作，至於這次的合作則主要是運用工研院顯示中心旗下的AMOLED（Active-matrix organic light-emitting diode，主動矩陣式有機發光二極體）二點五代線，以及約四十位顯示面板電晶體技術的專家人力，並藉由臺灣在面板產業與上下游整合的群聚力量，來驗證整個技術在產線上的實務運用，以協助業界進入今後4K/8K的高階顯示時代。而根據去年底在「顯示器國際會議」（IDW：International Display Workshop）中的大會簡報，目前已有包括友達光電（AUO）在內的臺灣廠商開始導入這項技術。

塗佈技術將取代真空技術成為今後顯示產業的典範

贏創資深專案經理Alexey Merkulov博士在介紹該公司研發設施與實驗室時指出，有別於當今主流的蒸鍍（CVD，化學氣相沈積）與濺鍍（sputter）技術都需要真空的環境來處理顯示基板（back plane）上的薄膜電晶體（TFT），贏創的iXsenic液態塗佈技術是以金屬氧化物（metal-oxide）半導體為材料，取代過去的非晶矽（amorphous silicon）材質，且可以在一般環境中（無需真空，也不需要特殊的大氣壓力）進行，不僅能降低設備與耗材的投資與處理成本，也會因為只將化學材料運用在塗佈的基板上而提昇許多製程效率（例如：不用等到整個蒸鍍環境都充滿了化學氣體，也不用把化學材料濺鍍到無需作用的區塊）。

之前曾在德國馬爾研發實驗室服務的ATC負責人贏創資深專案經理蘇國輝（Kent Su）在臺北接受本文專訪時也認為，這項技術將不僅能運用在顯示面板的半導體層，還能應用在觸控面板的黑色矩陣（BM：Black Matrix）油墨、介電層（dielectric）、蝕刻阻擋（etch-stopping）、鈍化層（passivation）等環節中。他以面板所需的遮光用BM為例指出，以往觸控面板上使用的氧化銦錫（ITO：Indium Tin Oxide）材料，需經過高溫燒烤才得以控制其透光率與阻抗，但也會因此破壞了傳統以有機材質為主的BM，而贏創的iXsenic液態塗佈技術具有耐高溫，並可在常溫下使用的特點，能因此讓BM的功效充分顯現，更不用擔心燒烤過程中被燒毀。此外，這項技術還可以運用在軟性電子（printed electronics）、電子紙（e-ink）、可撓式電子顯示（flex display）等產品上。

塗佈技術未來將朝印刷式技術邁進

該公司行銷總監Daniel Katterbach則補充說，贏創的iXsenic液態塗佈技術除了先前提到在製程上的能源效率（不需要真空也不需要特殊氣壓）以及材料效率（化學材料只需用在刀口上，甚至只要以往的十分之一）優勢，其對於當今顯示基板上TFT的物理平整性（homogeneity）、電流特性、電子移動速率（mobility）等都有很顯著的超越。此外，目前擁有三十位來自世界各國（包括臺灣）來的馬爾研發實驗室研究團隊，也計畫把塗佈技術朝印刷式技術邁進，甚至運用到RFID（射頻辨識）、印刷式微處理器（hybrid micro-processor）等領域中。