晶圓代工大廠台積電日前宣布該公司2004年將力推低介電係數製程技術（Low-K Technology）；該公司將把該技術列為12吋90奈米製程的標準配備，並預期全年將可以此技術將產能由2003年的1萬片提升至10萬片（以8吋晶圓計）。

台積電副總執行長曾繁城表示，台積電是在3年多前開始發展Low-K技術，目前在0.13微米製程的生產良率已與傳統製程相當，並成功為包括繪圖晶片大廠ATI在內的數十家客戶進行量產.。

台積電指出，未來12吋90奈米製程將完全採用Low-K技術，並於本季進入加速量產階段。Low-K技術可減少產品的耗電量，並同時增加執行速度，對需要省電以及高速應用的產品是較佳的選擇。