據工商時報報導，交大科管所教授袁建中在經濟部技術處ITIS專案辦公室主辦的亞太2015年技術前瞻研討會中表示，從技術預測的角度出發，半導體製程在2006年時會進入到65奈米。而目前半導體製程面臨三大議題為：奈米級的線寬、新材料的選用及12吋晶圓；其中較受到外界看重的是奈米製程技術的演進，也代表各家晶圓製造廠商的競爭實力所在。

袁建中指出，運用成長曲線及趨勢外插法作為技術預測方法，他推算出國際半導體產業在2006年時會進入到65奈米製程，而國內晶圓廠推算出的技術進程則更快，可達到52奈米。但袁建中解釋，因國內資料較少，預測結果與國外有些差異，但綜合來說，2006年到達65奈米製程是普遍廠商皆能認同的時程。

而在熱門的TFT-LCD產業上，袁建中也以專利預測法來預測此產業前景。他以專利數的多寡來判斷產業未來走向。他說，以CRT為例，在全球專利數達到1000項時，此產業呈現競爭階段，而在專利數達到6000項左右時，產業會往低勞力密集的地方移動，袁建中認為，TFT-LCD產業到了2015年時，台灣五代廠會有一波外移的動作，就像CRT產業一樣。

袁建中也指出，以專利數來判斷，現在新興產業如OLED專利數只有3、4百篇，距離產業發展的1000篇還有些距離。而下一代顯示器產業CNT-FED（奈米碳管顯示器），其專利數更少，發展的時程更在OLED後面。這也是未來TFT-LCD產業外移後，台灣會發展的新興顯示器產業。