台積電資深研發副總蔣尚義日前表示，目前台積電已有40多項90奈米產品導入試產，預計將在1年後導入量產，但因90奈米製程市場需求增加速度可能不及0.13微米製程，估計三年以後客戶才會大量使用此先進製程。

蔣尚義是於第11屆VLSI研討會上，應邀發表台積電65奈米、45奈米、32奈米製程的溼式曝光技術（Immersion Lithography）發展狀況，他表示，曝光機設備商因應65奈米製程所需光罩，已投注以10億美元計的資金於波長157奈米曝光機台的研發工作上。

而蔣尚義也進一步解釋台積電近日已多次對外介紹的「濕式顯影技術」（Immersion Lithography），推估顯影設備廠商將在2004年底前推出193奈米的「濕式顯影機」雛型機，屆時台積電也會針對溼式顯影技術，在研發部門內成立專屬團隊進行開發。

蔣尚義表示，希望該技術能成為65奈米製程以下光罩技術的主流，目前台積電在該技術的相關智財權上，已佔據了有利位置。他指出，這個技術最多可支援到約32奈米製程世代，機台原型預計2004年下半將交貨台積電，屆時台積電內部將組成相關研發團隊全力開發。