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全球晶圓廠產能利用率將逐漸上揚
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2003年05月26日 星期一

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據半導體產業協會(SIA)日前公佈的最新報告,全球晶圓廠產能利用率自前一季的81.9%,增加至83.6%。IC Insights分析師Bill McClean表示,未來幾季晶圓廠產能利用率可望逐步爬升,並在第四季恢復到2000年時的高水準。

McClean在看過SIA最新報告後認為,半導體產業景氣雖自2000年後開始下滑以來,全球晶圓廠產能利用率皆不及90%。,旦未來幾季隨半導體業者提高產能,晶圓廠產能利用率將陸續爬升,預估第二季產能利用率可達85%,第三季將增加至88~89%,第四季會進一步攀升至90%左右,屆時IC平均售價亦會呈現上揚。

McClean指出,除整體景氣疲弱之外,恐怖攻擊事件、嚴重急性呼吸道症候群(SARS)等因素,都是2003年以來導致晶圓廠延緩資本支出、抑制業者投資意願的因素,加上投資12吋廠亦有風險,推論短期內業者仍會維持保守觀望態度,待市場需求明顯浮現復甦跡象後,再做出相關決定。

此外McClean認為,須待先進製程產能利用率達到95%左右,IC業者資本支出額才會普遍增加;目前IC業資本支出約佔整體IC銷售額的20%,而先進製程之產能利用率約為90%,此比例尚無法替業者帶來豐厚的利潤。

關鍵字: SIA  其他電子邏輯元件 
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