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力晶與Elpida 將合作研發0.11微米DRAM製程
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2002年12月04日 星期三

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據國內媒體報導,日本DRAM製造商Elpida社長阪本幸雄,日前密訪力晶半導體,雙方並達成共同合作研發利基型DRAM及0.11微米製程的協議,阪本幸雄並強調不會把堆疊式DRAM製程技術移轉給茂德。

根據力晶轉述會議內容,Elpida基於研發費用考量,將委託力晶負責利基型、通訊用記憶體晶片研發,如繪圖DDR及1T SRAM等產品;未來0.11微米製程,也將交由力晶12吋晶圓廠進行研發及試產。

而據指出,阪本幸雄否認外界宣稱、茂德已與Elpida達成技術轉移協議的消息,並向力晶保證,未來不會也不考慮技術轉移新製程給茂德。

力晶董事長黃崇仁表示,力晶半導體8吋晶圓廠將轉型為日系整合元件廠(IDM)晶片服務公司。為此力晶特別成立力華,整合IC設計服務及矽智材(IP)業務,準備承接日本客戶訂單。

關鍵字: Elpida  力晶  動態隨機存取記憶體 
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