應用材料公司宣佈聯華電子已經採購該公司Producer S 300化學氣相沉積製程設備，並且安裝在台南科學園區內的12吋晶圓廠。應用材料已是目前半導體業界12吋晶圓製程設備的主要供應商，這次的採購行動則進一步強化了應用材料的領導地位。聯華電子將利用這些製程設備來沉積各種的介電薄膜，以便支援先進的次0.18微米元件的量產製造。

聯華電子副總經理吳英志表示：「對於晶圓代工廠來說，製程設備必須同時提供低廉的操作成本、極高的生產力以及支援多種製程技術的最大彈性，而300mm Producer S製程設備採用獨特的架構，可以滿足晶圓代工的要求。這套製程設備在八吋晶圓的量產製造上有成功的記錄，這是讓我們做出這項採購決定的重要因素之一。我們希望所選用的設備可以在最小的風險下，快速完成晶圓試產及量產，這對於我們12英吋新晶圓廠的成功極為重要。」 應用材料公司Producer S製程設備，為Producer平台的另一種精簡版本，可提供同樣高產出的製造能力，但是設備的使用空間卻縮小了近30%之多。利用這套「縮小版」的機型，晶片製造商就可以在每平方英呎的地板面積上，提供更高的製程生產力，這讓晶圓廠內的空間運用更有效率。

應用材料副總裁暨介電系統與模組產品事業群總經理法哈‧莫葛丹（Farhad Moghadam）表示：「聯電正加快腳步把最先進的製程技術應用於成長中的晶圓代工業務，我們非常高興能與聯華電子合作，協助他們升級到12吋晶圓製程。自上市以來，Producer已經證明為200mm製程中，最為可靠、應用富有彈性、且又合於成本效益的製程設備。當我們的客戶開始使用新製程技術的時候，同樣的優點也可以輕易轉移到300mm製程。」

應用材料公司於1998年7月推出Producer製程設備，因為其具有節省空間與高產出率的特性，因此獲得業界一致的肯定。這套製程設備最多可以容納三個Twin Chamber模組，晶圓會成對的送到各個模組，而每一個模組都包含了兩個完全相同的單晶圓製程反應室。每一個「雙反應室」模組共用許多子系統，如真空狀態的產生或是氣體的供應；但在此同時，也具有自己的電源以及其它的製程參數，讓廠商享有更好的製程控制能力。除此之外，Producer支援多種晶圓製程，涵蓋幾乎所有的介層化學氣相沉積應用。

Producer系統也提供了整合式的量測技術，可以精準測量薄膜的厚度與平整度，確保系統在極高的晶圓產出速率下，仍能達成高品質的製程處理結果。為了徹底解決造成地球溫室效應的「全氟化物」（PFC）氣體排放問題，這套設備還採用了應用材料的Remote Clean技術，這項技術並且獲得美國環境保護署表揚，認定是維持全球氣候穩定的示範產品。