账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
NEC率先突破0.1微米制程技术的门坎
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年06月08日 星期五

浏览人次:【1824】

日本NEC公司日前宣布成功研发0.095微米的制造技术,成为世界上首家率先突破0.1微米技术制程的公司。该项技术将应用于制造大规模集成电路,并将于2001年第二季末正式推出市场。和0.13微米技术制造的旧产品比较,采用0.095微米制程的新产品的集成化程度提高19倍,可以节省30%的电能,并且获得1GHz的运行速度,这项优点对于高速大容量通信系?,以及要求高节电标准的移动设备来说,具有重大的应用价值。因此,专家们认为0.1微米制程的突破,将快速推动互网连络。

NEC公司表示将在3类半导体产品优先采用0.095微米制程,包括大容量通信终端与生成图形用的高速型产品、普及互联网及数字信息家电用的高密度型、移动设备用的低耗能型半导体产品。NEC公司已开始接受全球各地厂商的订货,并且将在2001年11月份开始量产。

關鍵字: NEC  其他电子资材组件 
相关新闻
NEC与能火、微软推出全球首个「生成式AI贝多芬」
NEC与微软合作推行生成式AI 支援企业专用开发环境
NEC宣布与Aviat达成双方无线传输业务整合最终协议
NEC推出卓越中心2.0创新方案
NEC铺设海底光纤电缆 连接美国与日本最大资料传输容量
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 使用PyANSYS探索及优化设计
» 隔离式封装的优势
» MCU新势力崛起 驱动AIoT未来关键
» 功率半导体元件的主流争霸战
» NanoEdge AI 解决方案协助嵌入式开发应用


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BT2Q1Q64STACUK6
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw