明导国际(Mentor Graphics)宣布其Calibre平台((Calibre nmDRC、Calibre Multi-Patterning、 Calibre nmLVS、Calibre YieldEnhancer with SmartFill 和Calibre xACT? 工具)以及Analog FastSPICE (AFS)电路验证平台已通过台积电(TSMC)最新版本的12FFC制程认证。此外,Calibre平台(Calibre nmDRC、Calibre Multi-Patterning、Calibre nmLVS、Calibre PERC和Calibre YieldEnhancer with SmartFill 工具)、Nitro-SoC布局绕线(P&R)平台、以及AFS平台也已通过台积电7奈米V1.0制程认证。
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台积电与明导国际扩展合作关系至12FFC与7奈米制程,可提供完备的静电放电与闩锁问题验证... |
Calibre实现套件现在已可支援最新的TSMC 12FFC制程设计协助客户的设计。此外,AFS电路验证平台,包括AFS Mega,技术已成熟可支援12FFC技术与台积电建模介面(TMI)。
对于台积电 7奈米制程,完整的Calibre实现套件现已更新至V1.0版本,适用于客户的生产设计交付制造。历经数回的改版发表,台积电与明导持续合作提升Calibre DRC 执行效能。目前的V1.0版本与初期的版本相比,执行速度已显著提升。
可靠度是现今许多电子产品成功的关键因素。台积电与明导国际扩展其合作关系至7奈米制程,可提供完备的静电放电(ESD)与闩锁(latch-up)问题验证,这些都会对可靠的效能与产品使用寿命带来影响。此合作关系也造就了Calibre PERC工具中的多CPU运算功能发展,能被用来进行全设计的点对点(P2P)阻抗和电流密度(CD)检查。
工程变更指令(ECO)通常都会在设计流程的后期才发生,而影响了交付制造的时程。为了加速双方客户达到设计收敛的能力,台积电与明导国际合作,扩展Calibre YieldEnhancer ECO填充流程从20奈米一直到最新的7奈米技术。 ECO填充流程能让客户快速管理最后阶段的设计变更,并确保变更仍能符合TSMC的制造需求。
AFS平台,包括AFS Mega电路模拟器,已通过台积电7奈米V1.0制程认证。全球领先半导体业者的类比、混合讯号与RF设计团队都将获益于采用AFS平台,以有效地验证使用台积电的最新技术所设计的晶片。
明导的Nitro-SoC P&R平台已进一步增强,可满足台积电 7奈米设计实现与认证的所有需求。明导还展现了其7奈米技术的成熟度,透过利用Nitro-SoC P&R平台成功建置了ARM处理器,现在已就绪可供客户布署之用。
台积电设计建构行销部资深处长Suk Lee表示:「我们与明导国际的持续合作关系,可确保双方客户在每个制程成功制造晶片所需的EDA解决方案与服务都能获得供应与支援。透过我们的携手合作,结合两家公司的专业技术,将能协助我们的客户在市场上获得成功。」
明导国际副总裁暨设计与制造部门总经理Joe Sawicki表示:「我们与台积电的伙伴关系是非常重要的,不仅在于找出新技术带来的挑战,更要能开发出解决方案,以确保我们的双方客户在运用新技术优势的同时,还能完成符合台积电制造需求的设计。客户的成功,也就是我们的成功。」