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NEC研发成功0.095微米半导体制造技术
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年06月23日 星期六

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日本NEC日前宣布,该公司已在0.1微米的半导体制程技术获得重大突破,NEC在全球率先研发成功的0.095微米的半导体技术,将运用于制造大型IC,并将在上半年推出市场。与以往采用0.13微米技术的产品比较,采用0.095微米技术制造的新产品容积量增加了19倍之多,可以节省30%的电能,且能够有高达1GHz的运行速度,这对高速大容量通信系统和省电要求很高的设备来说,具有很高的应用价值。因此,专家们认为半导体技术0.1微米的突破,将为网络发展带来重大的助力。

专家们曾经预测,到2003年,全球半导体业界将超越0.25、0.18及0.15微米制程技术,进入0.13微米制程的新领域,而现在由于日本NEC公司提前突破了0.1微米制程技术,因此专家们认为全球半导体技术的发展将会加速,半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级,以适应新的市场需求。

關鍵字: 半导体制程  NEC 
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