晶圆代工大厂台积电宣布取消157奈米微影订单，转向为湿浸式科技（immersion technology）背书，此一消息对半导体设备大厂ASML来说不啻是一大打击，也是继英特尔（Intel）放弃157奈米微影技术设备蓝图，计划以193奈米扫瞄机微影技术，进90奈米以下先进制程后，157奈米微影技术的另一挫败。

根据网站Silicon Strategies报导，尽管英特尔已决定放弃157奈米微影科技，但直到最近台积电仍将157奈米微影科技列在该厂发展蓝图上；不过4月下旬时，胡正大便曾暗示，台积电可能打算继续使用193奈米扫描机，进行65奈米制程，并计划引进湿浸式科技，进行45奈米以下制程。而台积电全球营销副总胡正大（Genda Hu）亦已证实该公司将取消157奈米微影设备订单并转而支持湿浸式微影设备。

虽然胡正大并未明指取消的是ASML的订单，但根据业界人士指出，台积电至少已连续取消2次有关157奈米设备的订单。半导体产业分析师表示，这项消息对ASML而言，可说是好坏参半，ASML一直希望出售157奈米扫瞄机给台积电，另一方面，ASML亦同时根据湿浸式科技，为晶圆厂与其他芯片供货商发展微影设备。

半导体业内人士指出，ASML与台积电业已针对ASML在193奈米方面的TwinScan平台，发展湿浸式设备，此外，日商半导体设备大厂Canon、Nikon亦已分别发展湿浸式微影科技。