根据南韩新闻网站Digitimes报导，南韩产业研究院日前发布韩国与大陆半导体产业比较分析报告指出，目前大陆半导体技术水准虽达0.18微米制程，但仍落后南韩0.10微米的制程5～6年。

该报导引述南韩产业研究院研究员意见指出，大陆半导体产业发展仍有许多问题，包括具备经营晶圆厂经验的人才不足，加上良率稳定性不足、售后服务与品质良劣等问题，而这些问题预计在短期内应难以获得解决。目前大陆半导体技术以0.25微米制程技术为主，部分为0.18微米制程，而南韩主力记忆体产品则为0.13微米制程，基本上，二国半导体产业要直接交锋竞争，尚有一段时日。

南韩产业研究院的报告指出，若以2002年为基准，大陆晶片设计能力与南韩相较约落后5年左右；大陆的晶片设计技术能力在0.35微米制程左右，与设计0.13微米制程以下产品的南韩业者相较差距尚远。

而对于南韩该如何维持与大陆技术差距的问题，该机构则表示，南韩应透过开发90奈米以下产品，来加强次世代记忆体晶片与系统IC事业的发展；同时并应强化次世代12吋晶圆的量产能力以及提高成本竞争力。