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SEZ Group发表旋转型潮湿表面处理创新方案
大幅降低持有成本满足全球客户对高产量制程需求

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年06月10日 星期二

浏览人次:【5060】

SEZ Group近期发表旋转型潮湿表面处理创新方案。新型Da Vinci系列方案具有最高产量与最小空间两项优势,为单晶圆制程提供高阶的服务及可靠性。此款产品的模组化及多重反应室的设计能提供可靠的制程方案,进而大幅降低持有成本,同时满足全球客户对高产量制程的需求。 Da Vinci方案结合SEZ通过产能验证及创新研发的各种最佳技术,将协助业界加速转移批次处理至单晶圆清洗技术。

现今的制造商需要精密的后段制程聚合物材料清洗系统,这些系统不但不会减缓生产线的速度,也不会增加生产线的复杂度,而此项需求在产能吃紧时,更将成为优先考量。 Da Vinci系列方案的第一款产品- DV-38F,内含八个反应室,其是针对90奈米以下12吋晶圆之后段制程所设计。 SEZ宣布已在高成长的亚洲市场接获第一笔DV-38F订单,新系统将取代无法满足客户对于可靠度需求的其它厂牌工具组,并预计于今年第三季将出货。

關鍵字: 其他電子邏輯元件 
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