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Mentor Graphics Calibre DRC 支援联电90奈米制程
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年03月05日 星期三

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明导国际(Mentor Graphics) 于2月19日宣布,联电已开始提供能够完整支援90奈米制程的CalibreR DRC (设计规则检查) 规则档案,它们可充份发挥Calibre最先进功能;自从1998年开始,Calibre就是联电的实体验证标准。联电设计支援部门负责人刘康懋表示,进入90奈米技术世代后,系统单晶片设计也变得非常复杂,因此如何对客户提供协助,使他们顺利完成从设计到制造的所有步骤就变得越来越为重要。联电将Calibre规则档案用于实际生产已有五年,这些规则档案还通过许多认证,使得从tape-out到制造的转移过程更顺利,不但客户成本得以降低,还能加快他们的新产品上市时间。 Mentor Graphics设计至制造部门总经理Joseph Sawicki表示,90奈米制程不但要求实体验证工具拥有更高效能、容量和精准度,还须提供足够弹性,即使目标系统单晶片包含设计方法差异极大的类比与数位矽智财(IP),它们也必须有能力进行验证。Calibre已准备就绪,有能力克服90奈米和下个世代技术的挑战。联电是Mentor Graphics的重要合作伙伴,也是Mentor可制造性设计矽晶伙伴计划(DFM Silicon Partners Program) 成员之一,这项合作关系确保双方客户都能获得完整的Calibre DRC、Calibre LVS (布局与线路图对比检查) 以及Calibre xRC (寄生参数萃取) 规则档案;使用者可从联电网站下载这些规则档案,不但大幅缩短实体验证的设定和发展时间,制造错误的发生机率也会降低。

關鍵字: Mentor Graphics  联电  劉康懋  Joseph Sawicki  EDA 
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