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台积电大陆八吋厂将以0.25微米以上制程为主
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年01月29日 星期三

浏览人次:【1879】

台积电董事长张忠谋日前表示,台积电在原则性获政府同意到中国大陆设立晶圆厂后,该晶圆厂将按进度兴建,最快可在2004年下半开始生产;台积电在中国大陆当地市场仍相当封闭的情况下,将以贴近客户角度进行市场布局,计画以0.25微米以上制程强化建立客户基础,并争取0.18微米以下制程订单来台湾厂投片。

台积电在获得经济部原则同意投资台积电上海有限公司后,日前首次由张忠谋公开说明台积电在中国大陆布局动作,张忠谋表示,送件申请只是布局阶段,政府日前同意仅是第一阶段核准,还有第二阶段需要核准,台积电仍会尊重政府相关程序,台积电大陆厂「最快最快」要到2004年下半年才会开始生产。

对于近来中国大陆中芯半导体以DRAM产品低价回销台湾市场,张忠谋指出,中国大陆现在建晶圆厂是过剩产能,对产业价格相当不好,不过台积电尚未明显感受到大陆晶圆厂低价抢单的压力,现在的状况是可以被忽略的,不过未来若大陆晶圆厂低价抢攻台湾订单,台湾也订有反倾销法,台积电不排除提起诉讼捍卫市场。

至于台积电大陆厂在2004年下半开始生产,张忠谋强调,台积电可以有先进技术提供大陆客户,不过即使加入WTO,中国大陆市场仍会相当封闭,台积电必须建立当地生产基地,面对届时大陆晶圆厂已完成0.18微米以上制程,台积电现阶段会以0.25微米与0.35微米制程建立当地客户关系,高阶制程导引到台湾现有晶圆厂为策略。

關鍵字: 台積電  經濟設計  其他電子邏輯元件 
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