账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
晶圆代工两大龙头研发支出再创新高
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年07月31日 星期二

浏览人次:【1838】

台积电、联电两大晶圆代工厂为降低不景气冲击,上半年扩大研发(R&D)规模,大举进入12吋晶圆及0.13微米以下制程领域,研发支出创下历史新高,希望提升平均销货价格(ASP),减缓订单萎缩冲击。

两大晶圆代工厂对于第三季的产能利用率都不乐观,台积电认为,利用率可能低于四成,联电则不排除营运比第二季差。不过,双方大举进行「研发竞赛」,希望早日进入高阶制程。

根据台积电半年报显示,第二季研发经费(R&D)达25.38 亿元,较去年同期的8.98亿元,大幅成长182.6%,其中16亿元用于0.13微米以下高阶制程研发,Fab 12晶圆厂及8吋厂扩产(Fab 8A、8B)分别耗资4亿元,累计上半年研发经费支出达49.85亿元,创下历史新高。

台积电董事长张忠谋表示,台积电第二季0.13微米以下制程比重达26%,预计第三季将成长五成,产出比重约40% ,平均销货单价因而大幅提升。

事实上,台积电、联电及华邦电为提升制程竞争力,今年首季开始,研发(R&D)费用就不断飙高,台积电甚至创下24.4亿元新高,联电也大幅增至18亿元,超过去年,投入项目以0.13微米到0.1微米制程为主。

關鍵字: 台積電  联电 
相关新闻
新思科技与台积电合作 实现数兆级电晶体AI与多晶粒晶片设计
Ansys、台积电和微软合作 提升矽光子元件模拟分析速度达10倍
台积电扩大与Ansys合作 整合AI技术加速3D-IC设计
矽光子产业联盟正式成立 将成半导体业『The Next Big Thing』
联电公布第二季营运绩效成长 再推动产能利用率提升
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 挥别制程物理极限 半导体异质整合的创新与机遇
» 跨过半导体极限高墙 奈米片推动摩尔定律发展
» 未来无所不在的AI架构导向边缘和云端 逐步走向统一与可扩展
» 关於台积电的2奈米制程,我们该注意什麽?
» 灯塔工厂的关键技术与布局


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BH3AIJ1YSTACUKA
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw