羅門哈斯電子材料公司（Rohm And Haas）是成立於1909年的全球特殊材料領導供應商，全球擁有1萬7000名員工，2005年並達到80億美元的年銷售額。其技術遍及各種市場領域，包括建築及營造業、電子產品及電腦、各項硬體及通訊設備、封裝、家用及個人護理產品、汽車、紙業、零售食品及超級市場、大型商業中心，以及醫療領域。

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CMP技術事業部研磨墊行銷總監David Ventura指出，羅門哈斯的CMP技術事業部（前身為Rodel）?自1969年起即成為全球半導體產業的研磨技術領導者和創新廠商，其產品包括研磨墊、研磨墊調節器（conditioner）和研磨液。CMP技術總部位於美國亞利桑納州鳳凰市，業務範圍遍及全球各地，公司還在美國德拉瓦州的紐華克（Newark, Delaware）?，以及日本的三重縣和奈良縣設有工廠。CMP技術事業部在CMP製程所使用的拋光墊，與拋光劑產業相當知名。此製程有助於製造今天半導體產品先進的電路系統。相關半導體產品包括DRAM、Flash與微處理器，使用範圍從行動電話、iPOD到筆記型電腦與電玩主機等。

CMP技術事業部的兩組新產品，包括VisionPad研磨墊系列的多款新產品，和全新的IC1000 AT系列研磨墊。這些新產品可滿足先進半導體製造商持續提升化學機械研磨製程技術和生產力的要求，同時為90奈米到45奈米的研磨應用提供各種不同選擇。

新產品包括多款專為先進製程而設計的VisionPad化學機械研磨墊，可進一步強化在2005年推出的VisionPad VP3100產品陣容。新研磨墊包括：VisionPad VP3200銅阻障層研磨墊，這是VP3100研磨墊系列新產品，可大幅降低缺陷率；VisionPad銅阻障層平坦化研磨墊，可利用以降低缺陷率，達到IC1000的平坦化效能；EcoVision EV4000銅阻障層研磨墊，具備低缺陷率；以及VisionPad淺溝槽隔離（STI）研磨墊，亦可利用以降低缺陷率，達到IC1000的平坦化效能。

此外羅門哈斯還推出全新的IC1000 AT系列研磨墊，這款新產品透過多項創新的研磨墊功能來降低現有高產量製程的缺陷率和持有成本。這些功能包括可縮短磨合期（break-in time）的超平坦設計、提高研磨偵測終點的穩定性（end-point）技術、可用於極端製程條件的新黏著技術，以及能夠延長產品壽命、進行邊緣修正（edge correction）和減少缺陷率的獨家溝槽設計。

David Ventura表示，這些產品將由該公司位於台灣的亞太製造與技術中心，和在美國的現有工廠，採用六標準差方法的品質與流程控管來進行生產製造與提供支援。IC1000 AT化學機械研磨墊可望在2007年第一季量產，而新的VisionPad系列產品則將陸續在今年第四季和明年第一季量產。而羅門哈斯在新竹科學園區新設立的CMP Technologies亞太製造與技術中心，也預計於2006年12月開幕啟用。