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創新研磨墊功能降低製程缺陷率和成本
專訪羅門哈斯電子材料CMP技術事業部研磨墊行銷總監David Ventura

【作者: 王岫晨】   2006年10月30日 星期一

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羅門哈斯電子材料公司(Rohm And Haas)是成立於1909年的全球特殊材料領導供應商,全球擁有1萬7000名員工,2005年並達到80億美元的年銷售額。其技術遍及各種市場領域,包括建築及營造業、電子產品及電腦、各項硬體及通訊設備、封裝、家用及個人護理產品、汽車、紙業、零售食品及超級市場、大型商業中心,以及醫療領域。


《圖一 羅門哈斯電子材料CMP技術事業部研磨墊行銷總監David Ventura》
《圖一 羅門哈斯電子材料CMP技術事業部研磨墊行銷總監David Ventura》

CMP技術事業部研磨墊行銷總監David Ventura指出,羅門哈斯的CMP技術事業部(前身為Rodel)?自1969年起即成為全球半導體產業的研磨技術領導者和創新廠商,其產品包括研磨墊、研磨墊調節器(conditioner)和研磨液。CMP技術總部位於美國亞利桑納州鳳凰市,業務範圍遍及全球各地,公司還在美國德拉瓦州的紐華克(Newark, Delaware)?,以及日本的三重縣和奈良縣設有工廠。CMP技術事業部在CMP製程所使用的拋光墊,與拋光劑產業相當知名。此製程有助於製造今天半導體產品先進的電路系統。相關半導體產品包括DRAM、Flash與微處理器,使用範圍從行動電話、iPOD到筆記型電腦與電玩主機等。


CMP技術事業部的兩組新產品,包括VisionPad研磨墊系列的多款新產品,和全新的IC1000 AT系列研磨墊。這些新產品可滿足先進半導體製造商持續提升化學機械研磨製程技術和生產力的要求,同時為90奈米到45奈米的研磨應用提供各種不同選擇。
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