面對現今半導體產業高度依賴水資源,但在半導體與電子製程中產生的含氟廢水卻因為處理與再利用困難,長期被視為高成本、高負荷的棘手問題。在國科會支持下,臺灣大學環境工程學研究所特聘教授侯嘉洪研究團隊今(10)日發表成功創新的「電驅動分離濃縮技術」,能使原本難以利用的低濃度含氟廢水,轉化為可再利用的循環資源,將為半導體產業推動廢水資源化與淨零轉型帶來關鍵突破。
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有別於目前高濃度含氟廢水雖然已可進一步轉製為冰晶石(Cryolite),應用於鋁製造及陶瓷產業,但低濃度含氟廢水因回收效率與經濟效益不足,仍缺乏具體可行的解決方案。傳統多以化學加藥沉澱方式處理,使氟離子形成氟化鈣污泥,不僅難以回收其中資源,也增加污泥清運、後續處理及碳排放負擔。
為突破此一限制及加速技術落地,研究團隊攜手長期深耕半導體含氟廢水資源化處理的鋒霈環境科技公司,導入多年深耕的「薄膜電容去離子技術(Membrane Capacitive Deionization, MCDI)」,發展低濃度含氟廢水濃縮新策略。
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