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3D IC技術漸到位 業務模式磨合中
打破摩爾定律制約

【作者: 范眠】   2012年12月21日 星期五

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採用矽穿孔(TSV)的2.5D或3D IC技術,由於具備更佳的頻寬與功耗優勢,並能以更高整合度突破製程微縮已趨近極限的挑戰,是近年來半導體產業的重要發展方向。在產業界的積極推動下,3D IC已從概念逐漸成為事實,預計將於二至三年後進入量產階段,必將成為未來市場的重要遊戲改變者。


TSV 3DIC市場逐步起飛

在日前舉行的Cadence使用者會議(CDN Live)與Semicon Taiwan活動上,包括台積電、聯電、日月光、Xilinx等大廠都釋出了表示3D IC即將邁入量產的訊息。
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