此篇訪談中，比利時微電子研究中心（imec）先進圖形化製程與材料研究計畫的高級研發SVP Steven Scheer以近期及長期發展的觀點，聚焦圖形化技術所面臨的研發挑戰與創新。

本篇訪談內容，主要講述這些技術成果的背後動力，包含高數值孔徑（high NA）極紫外光（EUV）微影技術的進展、新興記憶體與邏輯元件的概念興起，以及減少晶片製造對環境影響的需求。

怎麼看待微影圖形化這塊領域在未來2年的發展？
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