日亚於中国对亿光专利诉讼获胜

日亚成功撤销亿光的中国专利，亿光旋撤回对日亚的侵害诉讼

日亚针对亿光电子（中国）有限公司（下称「亿光中国」）关於覆晶晶片技术之中国专利（专利申请号：ZL200710161547.X；下称「547号专利」）提出专利无效宣告请求。中国国家知识产权局近日作成审查决定（案件编号：4W108258），肯认日亚之主张，宣告547号专利全部无效。中国国家知识产权局作成上述决定後，亿光中国前就547号专利对日亚及日亚客户向深圳市中级人民法院所提起之专利侵害诉讼（案号：(2017)粤03民初2283及2284号），亦因亿光中国撤回起诉而告终结。

此外，日亚前於2019年1月就其控告亿光中国及其中国经销商之YAG专利侵害诉讼取得胜诉判决，此判决亦已确定。日亚并获得亿光中国及其经销商共计人民币320万元之损害赔偿。
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