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平面光波導技術及其應用
邁向積體光學之路

【作者: 林山霖】   2003年02月05日 星期三

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在光通訊元件界,一直有個夢想,希望能再次複製半導體產業成功模式。換言之,當初電子元件,也是從電阻、電容與電感等單一元件,而後發展出積體電路(IC)之整合元件,改變全球電子產業生產模式。同樣的,在光通訊元件廠商,也希望從目前單一元件型式,能走向未來積體光學之路。


而在積體光學之拼圖板塊中,光主動元件中,發光源已經採用半導體雷射,而最缺的是光被動元件。綜觀目前光被動元件,主要有精密陶磁、熔合、微光學、薄膜、光纖光柵、平面光波導以及微機電等七大技術,但目前仍以前五項的技術為主,做成不同光被動元件,且都屬於單一元件型式。


但是平面光波導(Planar Lightwave Circuit;PLC)技術,因採用半導體製程,不只深具低成本潛力,且具整合元件能力,被視為積體光學拼圖中重要的一塊。因此本文將介紹平面光波導(PLC)技術與製程,在產品應用上則以陣列波導光柵(Arrayed Waveguide Grating;AWG)為例作一分析。
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