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评估工业隔离器效能的新动态共模抑制测试
 

【作者: Vincent Ching】2013年11月04日 星期一

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长久以来,共模静态规格已经成为测量与比较采用不同架构或技术隔离器的产业标准,然而旧的标准目前已经不再适合做为测量和比较的指针,原因是了解终端系统运作状态下输入与输出变化时的共模抑制(CMR, Common Mode Rejection)效能非常重要,如果可以进一步探讨隔离器所采用的技术,例如光学、磁光、电容或射频将可以使选择的过程更加妥善。


历史最久并且最为完善的为使用红外线的隔离技术,光学技术也是唯一由国际认可IEC 60747-5-5安全标准涵盖的技术,光耦合器为允许信号于电路或系统间传送,并保持电路或系统间电气隔离的光电耦合半导体组件,市场上提供有单一或多信道光耦合器产品,光耦合器有时也称为光电耦合器或光隔离器。


图1显示了典型光耦合器中的构成部件,通过提供足够的绝缘厚度,可以将输入与输出间的寄生电容耦合降到最低,从而提高光耦合器的CMR,另外,安华高科技(Avago Technologies)更透过使用环绕光侦测器的内部法拉第屏蔽(Faraday shield)进一步强化光耦合器的CMR,这个屏蔽允许光传输并将其他任何电气干扰接地。
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