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延续硅晶未来 先进研究露曙光
超越硅晶的新世代

【作者: 范眠】2013年01月24日 星期四

浏览人次:【10277】

半导体制程微缩已近尾声,尽管研究人员运用超薄SOI、high-k闸极电介质、双闸CMOS、三维FinFET等各种技术,一般认为硅晶CMOS将于2020年微缩至10至7奈米,便真正面临极限。


那么,2020年后的半导体产业将会是甚么样貌?除了盖18吋超大晶圆厂、发展3D IC技术外,还有甚么样的可能性?



图一 : 我们将能透过新材料来延续硅晶技术的未来,让这项进入人类文明不过40多年的技术像过去的石器与铜器时代一样,能够源远流长。
图一 : 我们将能透过新材料来延续硅晶技术的未来,让这项进入人类文明不过40多年的技术像过去的石器与铜器时代一样,能够源远流长。

耶鲁大学电机工程教授及中央研究院院士马佐平博士(T. P. Ma)日前在台湾举行的Sematech年会上,介绍了研究人员试图以碳奈米管(CNT)、石墨烯、III-V族等新材料,做为延续硅晶CMOS未来发展的可行性。而选用这三种材料,主要是因为考虑它们具备更高的迁移率(mobility)特性。
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