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创新研磨垫功能降低制程缺陷率和成本
专访罗门哈斯电子材料CMP技术事业部研磨垫行销总监David Ventura

【作者: 王岫晨】2006年10月30日 星期一

浏览人次:【5424】

罗门哈斯电子材料公司(Rohm And Haas)是成立于1909年的全球特殊材料领导供应商,全球拥有1万7000名员工,2005年并达到80亿美元的年销售额。其技术遍及各种市场领域,包括建筑及营造业、电子产品及电脑、各项硬体及通讯设备、封装、家用及个人护理产品、汽车、纸业、零售食品及超级市场、大型商业中心,以及医疗领域。


《图一 罗门哈斯电子材料CMP技术事业部研磨垫营销总监David Ventura》
《图一 罗门哈斯电子材料CMP技术事业部研磨垫营销总监David Ventura》

CMP技术事业部研磨垫行销总监David Ventura指出,罗门哈斯的CMP技术事业部(前身为Rodel)?自1969年起即成为全球半导体产业的研磨技术领导者和创新厂商,其产品包括研磨垫、研磨垫调节器(conditioner)和研磨液。 CMP技术总部位于美国亚利桑纳州凤凰市,业务范围遍及全球各地,公司还在美国德拉瓦州的纽华克(Newark, Delaware)?,以及日本的三重县和奈良县设有工厂。 CMP技术事业部在CMP制程所使用的抛光垫,与抛光剂产业相当知名。此制程有助于制造今天半导体产品先进的电路系统。相关半导体产品包括DRAM、Flash与微处理器,使用范围从行动电话、iPOD到笔记型电脑与电玩主机等。


CMP技术事业部的两组新产品,包括VisionPad研磨垫系列的多款新产品,和全新的IC1000 AT系列研磨垫。这些新产品可满足先进半导体制造商持续提升化学机械研磨制程技术和生产力的要求,同时为90奈米到45奈米的研磨应用提供各种不同选择。
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