账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES / 文章 /
创新研磨垫功能降低制程缺陷率和成本
专访罗门哈斯电子材料CMP技术事业部研磨垫行销总监David Ventura

【作者: 王岫晨】2006年10月30日 星期一

浏览人次:【5429】

罗门哈斯电子材料公司(Rohm And Haas)是成立于1909年的全球特殊材料领导供应商,全球拥有1万7000名员工,2005年并达到80亿美元的年销售额。其技术遍及各种市场领域,包括建筑及营造业、电子产品及电脑、各项硬体及通讯设备、封装、家用及个人护理产品、汽车、纸业、零售食品及超级市场、大型商业中心,以及医疗领域。


《图一 罗门哈斯电子材料CMP技术事业部研磨垫营销总监David Ventura》
《图一 罗门哈斯电子材料CMP技术事业部研磨垫营销总监David Ventura》

CMP技术事业部研磨垫行销总监David Ventura指出,罗门哈斯的CMP技术事业部(前身为Rodel)?自1969年起即成为全球半导体产业的研磨技术领导者和创新厂商,其产品包括研磨垫、研磨垫调节器(conditioner)和研磨液。 CMP技术总部位于美国亚利桑纳州凤凰市,业务范围遍及全球各地,公司还在美国德拉瓦州的纽华克(Newark, Delaware)?,以及日本的三重县和奈良县设有工厂。 CMP技术事业部在CMP制程所使用的抛光垫,与抛光剂产业相当知名。此制程有助于制造今天半导体产品先进的电路系统。相关半导体产品包括DRAM、Flash与微处理器,使用范围从行动电话、iPOD到笔记型电脑与电玩主机等。


CMP技术事业部的两组新产品,包括VisionPad研磨垫系列的多款新产品,和全新的IC1000 AT系列研磨垫。这些新产品可满足先进半导体制造商持续提升化学机械研磨制程技术和生产力的要求,同时为90奈米到45奈米的研磨应用提供各种不同选择。
...
...

另一名雇主 限られたニュース 文章閱讀限制 出版品優惠
一般訪客 10/ごとに 30 日間 5//ごとに 30 日間 付费下载
VIP会员 无限制 20/ごとに 30 日間 付费下载
相关文章
AI高龄照护技术前瞻 以科技力解决社会难题
3D IC 设计入门:探寻半导体先进封装的未来
SiC MOSFET:意法半导体克服产业挑战的颠覆性技术
超越MEMS迎接真正挑战 意法半导体的边缘AI永续发展策略
CAD/CAM软体无缝加值协作
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关新闻
» 豪威集团推出用於存在检测、人脸辨识和常开功能的超小尺寸感测器
» ST推广智慧感测器与碳化矽发展 强化於AI与能源应用价值
» ST:AI两大挑战在於耗能及部署便利性 两者直接影响AI普及速度
» 慧荣获ISO 26262 ASIL B Ready与ASPICE CL2认证 提供车用级安全储存方案
» 默克完成收购Unity-SC 强化光电产品组合以满足半导体产业需求


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BG3I955KSTACUKU
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw