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CTIMES / 半导体制造与测试
科技
典故
第一颗晶体管(Transistor)的由来

第二次世界大战末期,贝尔实验室开始一项研究计划,目标是研发出一种体积更小、功能更强大、更快速且可靠的装置来取代真空管。1947年12月23日,由贝尔实验室研发的晶体管取代了真空管,优点是体积更小、更可靠、且成本低廉,不仅孕育了今日遍及全球的电子半导体产业,同时也促成电讯计算机业、医学、太空探测等领域产生戏剧性的改变。
Synova微水刀激光技术开放授权 (2007.03.01)
微水刀激光科技创始者和专利拥有者SYNOVA公司,今天发表一项新的策略经营模式,开放严选合作伙伴授权其专利微水刀激光技术(Laser MicroJet Technology)。在未来,除Synova将持续开发、销售及提供其微水刀激光(Laser MicroJet)产品服务之外
前进欧洲UL台湾协助厂商产品认证 (2007.02.02)
相对于北美市场较统一的产品安全规范(UL标准),欧洲各国对于产品的安全认证要求迥异,国内电机电子厂商若计划将产品营销挺进欧洲市场,取得产品的销售通行证,厂商必须符合各国不同的安规要求,并申请多国认证,也因此形成较高的进入障碍
美商国家仪器NIDays2006记者会 (2006.10.26)
在全球虚拟仪控界居于领导地位的美商国家仪器(National Instruments, NI) 将于十一月举行一年一度的虚拟仪控盛会-NIDays2006。在此场活动中,NI准备了个产业领域的相关应用主题
Tektronix-2006亚洲巡回研讨会-台北 (2006.10.24)
全球测试、量测及监测仪器领导厂商Tektronix,今天宣布将于11月30日举行「2006亚洲巡回研讨会」,主题为「实现新数字世界的创新产品」。研讨会中将展示最新的测试、量测及监测解决方案,能让电子工程师设计、建置、部署及管理新一代技术,以进行高速串行数据、数字视频及无线通信应用
Tektronix-2006亚洲巡回研讨会-新竹 (2006.10.24)
Tektronix,将于11月30日举行「2006亚洲巡回研讨会」,主题为「实现新数字世界的创新产品」。研讨会中将展示最新的测试、量测及监测解决方案,能让电子工程师设计、建置、部署及管理新一代技术,以进行高速串行数据、数字视频及无线通信应用
SEMI公布九月半导体设备订单出货比 (2006.10.19)
北美半导体设备暨材料协会(SEMI)于10月18日公布九月半导体设备订单出货比(B/B值),整体来看,九月份订单金额及出货金额均较八月份下滑约7%左右,不过若由前后段设备来看,前段晶圆制造设备B/B值确定由高转低,后段封测设备B/B值则已回升,此一现象证明了第四季封测市场将较晶圆代工市场为佳
TI-解开创新密码媒体聚会 (2006.10.19)
科技有极限吗?创新有方程序吗?科技真能满足人类需求?下一个杀手级创新在哪里? 思索这些问题,是德州仪器首席科学家方进(Gene Frantz)的每日课题。今年再度应邀来台参与年度盛会TIDC(TI Developer Conference)的方进
UL台湾推动检测数据的建立 (2006.10.18)
随着 7 月强制上路的欧盟 RoHS 指令,电子产品无铅化已成为势在必行的趋势,虽然多数的印刷电路板制造商已改采用无铅焊料来因应,然而在导入无铅材料后,却也引发「是否仍符合安全标准」的争议
经部「业界科专」绩优厂商公布多项研发成果 (2006.09.25)
经济部技术处在台北举行「业界科专」成果发表会,依计划绩效重点设置12项表扬奖项如:研发联盟、产业升级、产业贡献、研发成果、产学合作、信息应用、杰出创意等,鼓励各级产业相关厂商投入专利研发设计工作
SEMI公布八月半导体设备订单出货比 (2006.09.21)
北美半导体设备暨材料协会(SEMI)公布8月半导体设备订单出货比(B/B值),虽然订单金额与7月持平,但出货金额大幅上升。但分析师指出,由历史经验来看,前段晶圆制造设备B/B值才刚由高档起跌,后续仍会下滑压力;至于后段封测设备B/B值已跌到历史低点区间,随时酝酿触底反弹
Hynix采用Integrated Materials SiFusion炉具 (2006.09.15)
Integrated Materials,Inc.宣布半导体内存产品供货商Hynix Semiconductor,Inc.为其在韩国利川的300 mm生产线选择Integrated Materials的SiFusion炉具。IMI的SiFusion蒸发皿将用于制造高级储存芯片的LPCVD加工
换个角度看制程 STS将蚀刻技术找到新位置 (2006.09.14)
过去,蚀刻技术属于IC制程的前端技术,称为蚀刻工程,蚀刻为利用化学反应将薄膜与以加工,始获得特定形状的作业,而STS(Surface Technology Systems plc)将蚀刻技术拉离前端制程,走入后端的先进封装,透过这次的版导体设备展宣布,开发一项新的深反应离子蚀刻(DRIE)电浆源
台湾半导体展于世贸开幕 设备市场一片看好 (2006.09.12)
台湾半导体展(SEMICON Taiwan 2006)于2006年9月11日开幕,包括日月光与硅品等封测大厂的高阶主管,以及全懋董事长吴健汉都现身参观,会场异常热闹。北美半导体设备与材料协会(SEMI)总裁兼执行长梅耶(Stanley T
新植入设备诞生 Epion来台推广GCIB (2006.09.11)
Epion Corporation为气体团簇离子束(Gas Cluster lon Beam;GCIB)设备开发商,日前与代理商帆宣系统科技合作,推广透过GCIB新的制程技术而开发出来的离子植入仪器-nFusion,功能在于使硅晶圆的掺杂过程(Doping)中
Orbotech LDI技术 为PCB产业提高生产量率 (2006.09.07)
高科技仪器供货商奥宝科技,宣布已成功售出超过180套激光直接成像(LDI)系统给印刷电路板厂商,充分展现了奥宝科技以先进技术实力提升生产方案的成功优势。 Paragon系统配以LSO Technology技术提供出色的质量、精确度以及高产量
重视系统级封装潜力 FSA对SiP市场提出分析报告 (2006.09.06)
仅管SoC的解决方案受到多数IC设计业者的支持,但是用SiP来做整合,仍有它的一席之地,某些方面更具经济效益,所以系统级封装(System in a Package)的解决方案仍是不断地进步发展,也合乎市场的需求
日半导体设备协会看好设备需求 但前景有待观望 (2006.08.22)
日本最新统计数字显示,受芯片需求强劲的带动,全球芯片制造设备市场也格外火红。全球芯片制造设备销售总额比去年同期大增50%,为过去一年多以来的最大增幅。美国《华尔街日报》援引日本半导体设备协会公布的数据说,全球芯片制造设备销售总额达39.9亿美元,其中,中国和北美等市场销售尤为强劲
设备制造商应用材料CEO预测中国可望追上美国 (2006.07.14)
全球最大半导体设备制造商应用材料公司(Applied Materi-als)CEO Mike Splinter 日前表示:「中国半导体技术将在五至七年之后追上美国。」这项预测意味着大陆半导体业者将在欧、美、日业者协助下,可望在五至七年后就超越台湾,震撼台湾半导体业
DEK的HawkEye印刷验证获Multi-Tech采用 (2006.07.11)
对于现今电子产品的生产,制程速度是其中的关键,到目前为止,保持生产线节拍速度意味着放弃全面的检测。不过,采用DEK公司创新的HawkEye印刷后检验技术,以生产线的节拍速度来进行百分之百的检验将不再遥不可及
内存厂设备扩产带动设备市场 预算上看400亿 (2006.07.11)
SEMI日前公布一项名为FabFutures的报告指出,2006、2007年晶圆厂设备采购将连续呈2位数成长,2007年采购额将达400亿美元,是继2000年以来的新高。其中以DRAM、NAND型闪存(Flash)业者最为积极,SEMI指出,成长来自于内存业者的设备扩产需求惊人

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