账号:
密码:
相关对象共 179
(您查阅第 9 页数据, 超过您的权限, 请免费注册成为会员后, 才能使用!)
雅特力首款电机控制专用MCU以180MHz主频打造高效能应用 (2024.10.28)
雅特力科技近日推出AT32M412/M416首款高性能电机控制专用MCU,适合於交通工具、家电及工业控制等应用。AT32M412/M416针对电机驱动应用场景设计开发,整合丰富的周边介面,具备高速运算效能,满足全球工业自动化、智慧家居及电动工具市场对於高性能、高可靠性及高精度电机控制解决方案的迫切需求
机械聚落结盟打造护国群山 (2024.09.27)
受惠於当今人工智慧(AI)驱动全球半导体产业显着增长,从材料到技术的突破,更仰赖群策群力,半导体技术也需要整合更多不同资源,涵括先进与成熟、前後段制程设备,才能真正强化供应链韧性与创新实力
东台偕日商DC叁展SEMICON 抢进晶圆加工商机 (2024.09.03)
顺应台湾工具机产业近年来持续拓展半导体产业布局,东台精机本周也将叁与SEMICON Taiwan 2024,并展示最新「晶圆平坦化解决方案」,以及全新单轴晶圆减薄机,预计未来3~5年可??达到半导体产业占旗下电子事业部营收50%的目标
使用黏合对乙太网路缆线在恶劣环境中维持连接 (2024.03.25)
本文叙述设计人员针对恶劣环境考量布线选项时会面临的许多挑战,以及如何使用黏合对乙太网路缆线来因应这些挑战,并且举例说明此技术的特性和效能。 随着移转至工业物联网(IIoT),多感测器和致动器工业环境对可靠性和效能有更高的要求,开发人员因此面临更多挑战,需寻求更强大的连接解决方案
雷射辅助切割研磨碳化矽效率 (2023.12.26)
台湾厂商还具备过去多年来於矽基半导体产业累积的基础,且有如工研院等法人单位辅导,正积极投入建立材料开发、雷射辅助加工制程等测试验证平台和服务,将加速产业聚落成型
应材创新混合键合与矽穿孔技术 精进异质晶片整合能力 (2023.07.13)
面对当前国际半导体市场竞争加剧,应用材料公司也趁势推出新式材料、技术和系统,将协助晶片制造商运用混合键合(hybrid bonding)及矽穿孔(TSV)技术,将小晶片整合至先进2.5D和3D封装中,既提高其效能和可靠性,也扩大了应材在异质整合(heterogeneous integration, HI)领域领先业界的技术范畴
[Computex] 明基隹世达集团展出七大智慧场域 (2023.05.30)
2023 COMPUTEX台北国际电脑展会上,明基隹世达集团以「Smart+ /智慧普拉斯」为主轴,联合集团内22家夥伴公司共同展出七大智慧场域,横跨资讯、餐饮零售、制造、网路通讯、教育、交通等产业,助力客户打造更智慧、更永续的未来
FUJIFILM将投资150亿日元 在台新建先进半导体材料厂 (2023.05.16)
FUJIFILM公司宣布将在台湾新设一座先进半导体材料厂,以拓展其电子材料事业。其台湾子公司台湾富士电子材料股份有限公司将在新竹取得用地,新厂房预计於2026年春季启用、规划生产CMP研磨液与微影相关材料
低碳电动车需求增加 马达永磁材料为目前关键用途 (2023.02.17)
本次东西讲座特别邀请中技社科技暨工程研究中心组长??家??博士担任讲者,剖析关键材料的科技应用与风险管理。
Bourns四款新型符合 AEC-Q200 标准的大功率厚膜电阻上市 (2023.02.13)
CRM-Q、CRS-Q、CMP-Q、CHP-Q 系列电阻专为电流限制器、缓冲电路以及平衡和泄放电阻器提供出色的浪涌和高额定功率能力 全球电子元件制造供应商美商柏恩(Bourns)扩展大功率厚膜电阻系列,全新推出四款符合 AEC-Q200 标准产品
R&S和Broadcom合作 为下一代无线设备提供Wi-Fi 7测试解决方案 (2022.12.21)
Rohde & Schwarz和Broadcom成功验证了R&S CMP180无线电通信测试仪在Broadcom Wi-Fi 7晶片组的应用。无线设备的OEM和ODM厂商即将把第一批Wi-Fi 7产品推向市场。 Rohde & Schwarz和Broadcom宣布为Broadcom Wi-Fi 7晶片组提供自动测试解决方案,这是业界首个为移动手机优化的Wi-Fi 7晶片组,同时支持双频2x2 IEEE 802.11be相容的操作
非铜金属半镶嵌制程 实现窄间距双层结构互连 (2022.08.05)
imec展示全球首次实验示范采用18nm导线间距的双金属层半镶嵌模组,强调窄间距自对准通孔的重要性,同时分析并公开该模组的关键性能叁数,包含通孔与导线的电阻与可靠度
盛美上海推出新型Post-CMP清洗设备 提供具成本效益解决方案 (2022.07.19)
盛美半导体设备(上海)股份有限公司,今日推出新型化学机械研磨後(Post-CMP)清洗设备。这是盛美上海的第一款Post-CMP清洗设备,用於制造高品质衬底化学机械研磨(CMP)制程之後的清洗
高效能与低功耗双轨并进 工业MCU注入智能工厂新动能 (2022.06.26)
要实现真正的智能工厂,必须从全面性的系统化、互联网化及自动化来着手,藉由智能设备的数据收集、分析、决策,再结合ERP、MES系统整合大数据资料,而其中工业MCU是实现智能工厂的重要关键
盛美上海18腔300mm Ultra C VI单晶圆清洗设备投入量产 (2022.04.22)
盛美半导体设备(上海)股份有限公司,作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装(WLP)应用提供晶圆制程解决方案的领先供应商,今日宣布,其18腔300mm Ultra C VI单晶圆清洗设备已成功投入量产
SEMI公布2021全球半导体材料市场 营收成长再创历史新高 (2022.03.17)
SEMI(国际半导体产业协会)於今17日公布最新半导体材料市场报告(Materials Market Data Subscription, MMDS)中指出,2021年全球半导体材料市场营收成长15.9%,达到643亿美元,超越2020年创下的555亿美元纪录,再缔新猷
盛美上海推出ULD技术 槽式湿法清洗设备获批量采购订单 (2022.02.15)
盛美半导体设备(上海)股份有限公司,宣布已接到29台Ultra C wb槽式湿法清洗设备的批量采购订单,该设备可应用於加工300mm晶圆,其中16台设备的重复订单来自同一家中国国内代工厂,重复订单的目的是支援该工厂的扩产
盛美上海推出新型化合物半导体设备 加强湿法制程产品线 (2022.01.28)
盛美半导体设备(上海)宣布,推出支援化合物半导体制造的综合设备系列。公司的150-200毫米相容系统将前道积体电路湿法系列产品、後道先进晶圆级封装湿法系列产品进行拓展,可支援化合物半导体领域的应用,包括砷化?? (GaAs)、氮化?? (GaN) 和碳化矽 (SiC) 等制程
用于检测裸矽圆晶片上少量金属污染物的互补性测量技术 (2021.12.30)
本文的研究目的是交流解决裸矽圆晶片上金属污染问题的经验,介绍如何使用互补性测量方法检测裸矽圆晶片上的少量金属污染物并找出问题根源,
台湾PCB产业力求设备制造业转型升级 (2021.11.25)
藉由缩小体积优势,开创出更多应用需求商机同时,也逆推台湾电路板(PCB)产业上中游加工、设备制造厂商加速转型升级,甚至跨足半导体设备领域。


     [1]  2  3  4  5  6  7  8  9   [下一頁]

  十大热门新闻
1 Bourns全新薄型高爬电距离隔离变压器适用於闸极驱动和高压电池管理系统
2 Basler全新小型高速线扫描相机适合主流应用
3 宇瞻智慧物联展示ESG监控管理与机联网创新方案
4 Littelfuse推出首款用於SiC MOSFET栅极保护的非对称瞬态抑制二极体系列
5 瑞萨与英特尔合作为新款Intel Core Ultra 200V系列处理器提供最隹化电源管理
6 宜鼎推出DDR5 6400记忆体,具备同级最大64GB容量及全新CKD元件,助力生成式AI应用稳定扎根
7 SCIVAX与Shin-Etsu Chemical联合开发全球最小的3D感测光源装置
8 三菱电机新型MelDIR品牌80×60像素热二极管红外线感测器
9 Pilz安全可配置小型控制器PNOZmulti 2适用於分散式周边设备
10 Bourns SA2-A系列GDT高浪涌电流等级提升电气性能和浪涌保护

刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3
地址:台北市中山北路三段29号11楼 / 电话 (02)2585-5526 / E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw