明導國際 (Mentor Graphics)宣佈推出Calibre LFD(Litho-Friendly Design)，這套產品不但為IC設計流程帶來全新思維，還進一步擴大Mentor的可製造設計 (DFM) 解決方案產品陣容。Calibre LFD在設計流程初期就能管理製程變異，這是第一套能夠滿足此項迫切需求並通過實際產品考驗的EDA工具。Mentor是在本週舉行的歐洲設計、自動化與測試研討會上推出這套新產品。

Calibre LFD允許設計人員做出各種設計取捨，以便產生更可靠和不易受到微影製程適用範圍 (lithographic process window) 影響的設計。這不但對90奈米技術很重要，更是65奈米製程的成敗關鍵，這類製程變異性會對矽晶片結果造成重大衝擊。

「高良率設計能力對於奈米技術極為重要。」超微 (AMD) 首席技術專家Luigi Capodieci表示，「Calibre LFD加入現有流程後，我們就能在設計初期進行佈局取捨，這將大幅改善佈局在製程適用範圍內的可靠性。」

Calibre LFD還能計算Design Variability Index (DVI)，這項參數可用來判斷設計對於製程變異的承受能力；DVI值越低，就代表設計越可靠。設計人員能利用DVI比較不同佈局方式，再選擇最不易受製程變異影響的佈局。

Calibre LFD是以通過實際產品考驗的Calibre設計與製造平台為基礎，並能透過Calibre Interactive輕易在各種常見的佈局環境使用。Calibre LFD會如同迭代性設計步驟一樣加入設計流程，並繼續使用原設計所用的佈局編輯器。設計人員還能使用Calibre RVE或Calibre DESIGNrev等佈局顯示與編輯工具以及結果顯示環境來觀察檢查結果和變異資料庫。

分析製程變異性以提高佈局的可靠性是可製造設計的重要新步驟。Calibre LFD為這項工作奠定基礎，讓設計人員能夠管理所有新製程的良率影響因素。

「確保可轉印性 (printability) 過去是晶圓代工廠商的責任。」Mentor Graphics設計與製造部門副總裁暨總經理Joe Sawicki表示，「現隨著Calibre LFD出現，設計人員第一次能透過製程適用範圍的變異來影響設計良率。」