完全整合的UV奈米壓印微影(UV-NIL) Track System結合EVG微影與光阻製程專長；應用領域涵蓋光子、微機電和奈米機電元件等

EV Group的HERCULES NIL track system提供適用於新興的光子元件高量產完整的與專屬的UV-NIL解決方案，結合晶圓清洗、光阻塗佈、烘烤的前處理步驟和EVG獨有的Smart NIL大面積奈米壓印微影製程在單一平台上。

微機電、奈米技術、半導體晶圓接合暨微影技術設備商EV Group（EVG）推出HERCULES NIL奈米壓印微影整合系統 （track system）。這個完全整合的Track System結合晶圓清洗、光阻塗佈、烘烤的前處理步驟和EVG獨有的Smart NIL大面積奈米壓印微影（NIL）製程在單一平台上，HERCULES NIL 系統擁有高產能與產量，並提供適用於新興的光子元件高量產（HVM）完整的與專屬的UV-NIL解決方案。

該系統可壓印出從數十奈米到幾微米的結構，以改變或提升表面或元件本身的光學反應，例如抗反射層（anti-reflective layer）、彩色和偏光濾光片、導光板、用於發光二極體（LED）製程的圖案化藍寶石基板(patterned sapphire substrate)等。而其他快速竄起的新型NIL應用還包括有微機電、奈米機電、生化和奈米電子等應用。

EV Group執行技術總監Paul Lindner表示：「EVG有『3i』哲學：發明（invent）、創新（innovate）和執行（implement）；而HERCULES NIL系統將EVG的『3i 』哲學表現得淋漓盡致。EVG是早期開發NIL設備的先鋒，擁有超過10年的研發經驗並持續提升設備效能，而目前我們已將NIL技術推進至成熟的水平，在許多應用上可提供比傳統光學微影技術更顯著的優勢。此外，Hercules NIL系統也可實現更廣泛的應用，尤其是光子和生化技術領域的應用將受益更多，最終更可將NIL技術在擁有成本和解析度方面的優勢發揮在量產上。」

HERCULES NIL系統於單一整合的系統中結合了EVG在NIL技術、光阻製程和高量產解決方案等眾多專精知識，可提供產量（每小時可產出40片8吋晶圓）。該系統是一個可高度靈活配置和模組化的平台，可適用於各種壓印材料和不同大小的結構，為客戶提供更大的彈性來因應不同製程的需求。高度整合的平台也將顆粒污染的風險降到最低。EVG全新的HERCULES NIL系統現已出貨，並已獲得光子元件製造大廠安裝使用和投入高量產階段。

產品特色

‧全自動化UV-NIL壓印和低力道的脫模技術

‧可處理直徑大至8吋的基板

‧全面覆蓋壓印的方法以避免步進式重覆曝光製程受限於處理面積而產生的圖樣拼接錯誤

‧可量產小至40奈米及更小的奈米結構

‧塗布均勻度+/- 1％，可將殘留層的厚度降至最薄，也可將整片晶圓製程的結構變異控制到最小

‧廣泛支援不同尺寸和形狀的結構，並且包括3-D

‧可用於各種極不平坦（粗糙）表面

‧可製造多次使用的軟模以延長母模使用壽命