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NXP將推出採用矽鍺碳製程技術的射頻/微波產品
 

【CTIMES/SmartAuto 林佳穎報導】   2010年05月25日 星期二

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恩智浦半導體(NXP)於日前宣佈,針對高頻無線電應用推出一系列採用最新矽鍺(SiGe)製程技術開發的新產品。並預計在2010年底前推出超過50種採用矽鍺碳(SiGe:C) 技術之產品。該產品製程可提供高功率增益,和極佳的動態範圍,專為滿足現實生活中無線、寬頻通訊、網路和多媒體市場領域的高頻應用需求而設計。

恩智浦表示,目前已有十多種SiGe產品上市,採用其QUBIC4技術開發並銷售的RF產品已超過兩千五百萬件。該產品製程可讓無線設備製造商增加更多設備功能,同時可節省空間、及節約成本。其QUBiC4技術,可加快從GaAs技術至矽晶片技術的轉移速度,帶來低雜訊性能和IP可用性。

目前,恩智浦提供三種不同的QUBiC4技術:QUBiC4+是針對小於5GHz應用的矽製程,例如中功率放大器;QUBiC4X約於6年前推出,是一種0.25µm SiGe:C 製程,常用於高達30GHz和極低雜訊應用,例如GPS;最新推出的0.25µm QUBiC4Xi SiGe:C製程,特徵頻率(Ft)超過200GHz,特別適合30GHz以上,以及要求極低雜訊係數的應用,例如VSAT和雷達。

以QUBiC4技術為基礎的產品涵蓋行動平台、個人導航設備、主動式電子掃描陣列雷達、衛星DBS/-VSAT、電子計量設備、軟體無線電技術、基地台、點對點無線連接及無線區域網路(WLAN) 等領域,皆是高頻和高整合度相當重要的領域。終端用戶的獲益於在手機變得更小巧、更輕便的同時,仍能不斷地增加更多功能。

關鍵字: NXP(恩智浦
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