完全整合的UV奈米压印微影(UV-NIL) Track System结合EVG微影与光阻制程专长；应用领域涵盖光子、微机电和奈米机电元件等

EV Group的HERCULES NIL track system提供适用于新兴的光子元件高量产完整的与专属的UV-NIL解决方案，结合晶圆清洗、光阻涂布、烘烤的前处理步骤和EVG独有的Smart NIL大面积奈米压印微影制程在单一平台上。

微机电、奈米技术、半导体晶圆接合暨微影技术设备商EV Group（EVG）推出HERCULES NIL奈米压印微影整合系统（track system）。这个完全整合的Track System结合晶圆清洗、光阻涂布、烘烤的前处理步骤和EVG独有的Smart NIL大面积奈米压印微影（NIL）制程在单一平台上，HERCULES NIL 系统拥有高产能与产量，并提供适用于新兴的光子元件高量产（HVM）完整的与专属的UV-NIL解决方案。

该系统可压印出从数十奈米到几微米的结构，以改变或提升表面或元件本身的光学反应，例如抗反射层（anti-reflective layer）、彩色和偏光滤光片、导光板、用于发光二极体（LED）制程的图案化蓝宝石基板(patterned sapphire substrate)等。而其他快速窜起的新型NIL应用还包括有微机电、奈米机电、生化和奈米电子等应用。

EV Group执行技术总监Paul Lindner表示：「EVG有『3i』哲学：发明（invent）、创新（innovate）和执行（implement）；而HERCULES NIL系统将EVG的『3i 』哲学表现得淋漓尽致。EVG是早期开发NIL设备的先锋，拥有超过10年的研发经验并持续提升设备效能，而目前我们已将NIL技术推进至成熟的水平，在许多应用上可提供比传统光学微影技术更显著的优势。此外，Hercules NIL系统也可实现更广泛的应用，尤其是光子和生化技术领域的应用将受益更多，最终更可将NIL技术在拥有成本和解析度方面的优势发挥在量产上。 」

HERCULES NIL系统于单一整合的系统中结合了EVG在NIL技术、光阻制程和高量产解决方案等众多专精知识，可提供产量（每小时可产出40片8吋晶圆）。该系统是一个可高度灵活配置和模组化的平台，可适用于各种压印材料和不同大小的结构，为客户提供更大的弹性来因应不同制程的需求。高度整合的平台也将颗粒污染的风险降到最低。 EVG全新的HERCULES NIL系统现已出货，并已获得光子元件制造大厂安装使用和投入高量产阶段。

产品特色

‧全自动化UV-NIL压印和低力道的脱模技术

‧可处理直径大至8吋的基板

‧全面覆盖压印的方法以避免步进式重覆曝光制程受限于处理面积而产生的图样拼接错误

‧可量产小至40奈米及更小的奈米结构

‧涂布均匀度+/- 1％，可将残留层的厚度降至最薄，也可将整片晶圆制程的结构变异控制到最小

‧广泛支援不同尺寸和形状的结构，并且包括3-D

‧可用于各种极不平坦（粗糙）表面

‧可制造多次使用的软模以延长母模使用寿命