EDA電子自動化廠商─明導國際(Mentor Graphics)將在5月11號(星期四)上午9:00至中午12:30假新竹國賓大飯店舉行Calibre xRC研討會，會中將針對65nm以及RF design兩個重要的應用領域來介紹如何克服寄生參數萃取問題的挑戰。

Calibre xRC是Mentor Graphics萃取寄生參數(parasitic extraction)問題的突破性工具，其萃取引擎可提供必要的精確度和萃取效能。Calibre xRC本身也提供一個完整流程，可將重點放在所選擇的必要資料，並可產生多種不同的網表格式資料，以便支援不同的後佈局分析工具。

這次研討會將邀請到Mentor Graphics(明導國際)美國總部技術行銷顧問Dusan Petranovic做說明。Dusan曾於美國加州克萊爾門(Claremont)的哈魏穆得學院（Harvey Mudd College）任教六年，也曾經在聖塔克拉克大學（Santa Clara University）教授研究所課程。1997年至2003年期間，他加入LSI Logic Advanced Development Laboratory成為其技術幕僚的一員，於LSI’s Process R&D部門，負責高速數位迴路設計的連接模組設計。他目前任職於Mentor Graphics Design to Silicon group以及Santa Clara University的奈米結構(Nanostructures)中心。

Mentor Graphics表示，此活動完全免費，會後，除了準備精緻美味的餐點之外，還有飛利浦數位相框抽獎活動，歡迎業界菁英共襄盛舉。