市調機構Information Network針對半導體設備市場發表最新調查報告指出，在市場對先進製程的需求持續增加的帶動之下，2004年半導體銅製程前段晶圓設備可望出現63％的高成長率，出貨金額則將達150億美元，2005年也仍可成長30％。為此設備大廠諾發系統（Novellus）也將推出最新應用於銅製程的化學機械研磨（CMP）設備，爭取市場商機。

根據Information Network的數據，今年銅製程設備占全部半導體設備出貨金額僅約6.2％，估計2006年將逼近一成，但銅製程設備年成長率63％，整個半導體前段設備成長率則僅有31.7％。該機構總經理Robert Castellano表示，目前發展銅製程的廠商仍以邏輯IC業者為主，但估計在65奈米以後，DRAM廠也將採用銅製程技術，將為銅製程設備帶來另一波高峰。

為爭取銅製程商機，12晶圓設備大廠Novellus宣布推出新一代化學機械研磨（CMP）半導體設備，該公司總裁Sass Somekh指出，CMP市場快速成長，估計2005年銅製程的CMP市場將達5.7億美元，該公司第一部12吋廠用的CMP機台已開始出貨，且可延伸至32奈米製程。

Novellus是於2002年併購日本創技工業（Speedfam）後進入CMP領域，並成為應用材料等CMP大廠的競爭對手。