SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN)与台湾国立清华大学(NTHU)在启动12英寸矽晶圆巨量电子束直写微影(MEB12)计画的厌祝仪式上签署了一份合作备忘录(MoU)。

NTHU将与国际半导体设备和软体供应商联手成立第一家巨量电子束直写(MEBDW)创新性半导体产学联盟，旨在开发顶尖的无光罩微影技术。MEBDW微影技术可实现「晶片内建安全」(on-chip security)，使台湾成为世界上第一个实现具有唯一ID的安全晶片的研发和试生产的地区，能够为网际网路、人工智慧、电子支付以及汽车晶片提供资讯安全保障。

MEB12计画叁与者包括全球唯一一家商用 MEBDW微影设备制造商来自荷兰的Mapper Lithography B.V.和美国设计软体供应商新思科技公司(Synopsys, Inc.)，SCREEN将利用DUO微影胶/显影系统(develop track)及SU-3200单晶片洗净系统为MEB12计画提供支援。

作为MEB12计画发起人之一，NTHU电机工程学系教授兼奈微与材料科技中心主任邱博文教授指出：「这项计画是利用台湾在半导体制造业中极强渗透能力的成功典范，我们与国际半导体巨擘成立联盟，在学校建立最先进的商用12英寸MEBDW微影制程生产线，使台湾国立清华大学成为全球第一所拥有这项独特研发能力的大学。」

SCREEN Semiconductor Solutions总裁Tadahiro Suhara表示：「我们很高兴能够为台湾国立清华大学提供支援，协助其引领MEB12联盟的成立和发展。这进一步彰显了我们的SCREEN设备技术和资源带给创新性物联网技术应用的价值。」

MEB12联盟允许台湾和亚洲邻国半导体IC设计和制造公司以会员身分加入，携手开发创新性晶片产品。据邱教授表示：「除研发安全晶片之外，该联盟还可作为无光罩IC设计认证平台，透过显着降低光罩不断攀升的成本，协助新成立的IC设计公司捱过初始阶段的艰难期，同时还可为利基型应用提供具备高解析度和高图形灵活性的低成本晶圆代工服务。」