Mentor, a Siemens Business宣布，该公司的Tanner类比/混合讯号（AMS）设计工具 ━ Tanner S-Edit原理图撷取工具和Tanner L-Edit布局编辑器 ━ 已通过TSMC的互通性PDK（iPDK）认证，可适用於台积电为大量类比IC设计提供的各种特殊制程技术。

Mentor的Tanner AMS设计工具经过最隹化，可创建自订的类比或「Analog on Top」的混合讯号晶片（IC），适用於22奈米或以上制程。许多领先的IC供应商都采用Mentor的Tanner工具为包括汽车、穿戴装置和工业物联网（IoT）等广泛市场设计高度复杂的混合讯号（AMS）元件。

「全球许多成长最快的市场越来越需要专用的混合讯号AMS晶片，以用来无缝连接类比和数位世界。Mentor的Tanner工具经过专门设计， 以满足IC设计人员日益成长的需求，并为需要高度创新的混合讯号AMS IC提供一个理想的设计平台」 Mentor晶片设计系统总经理Greg Lebsack表示。「Tanner AMS工具现已通过台积电支援类比IC设计的特殊制程认证，这对我们的客户来说是个大好消息，因为它可以加速上市时程并把风险降至最低。Mentor的Tanner AMS解决方案和台积电的类比IC特殊制程是协助我们共同客户致胜市场的绝隹组合。」

台积电的特殊制程技术iPDK可协助晶片制造商满足领先AMS IC设计的特定要求。Mentor AMS工具现已通过台积电的多项iPDK认证，包括22奈米超低功耗、28奈米高效能运算、40奈米混合讯号技术，以及适用於现今最先进类比IC的其他特殊制程技术。

台积电设计建构行销处资深处长Suk Lee表示：「我们与Mentor的持续合作，可确保我们的共同客户能获得所需的EDA解决方案和服务，以支援他们在特殊节点上成功完成晶片设计和制造。这项共同努力把台积电的特殊制程技术与Mentor的先进设计工具结合在一起，使我们的客户能在汽车、智慧穿戴装置和工业物联网等广泛市场中实现创新成功。」