Mentor Graphics将于2006年8年15日(周二)于新竹国宾大饭店举行一场盛大的EDA技术论坛，为IC设计工程师提供了与世界一流EDA业界专家进行面对面交流的机会。

Mentor Graphics CEO & Chairman, Mr. Walden C. Rhines将出席为您揭示EDA市场的最新发展趋势，并说明在半导体制程技术朝向65nm发展的趋势下，EDA设计工具的崭新变革，进而带动EDA产业的快速发展。

此外，台积电设计服务部门副总监吴国雄博士也应邀出席说明可制造设计 (DFM) 流程技术对半导体产业中产品开发时程与良率提升等竞争力与获利力的关键性影响因素；奈米技术使EDA产业开发新技术，让设计人员在设计、验证、和测试程序的每一个阶段都能将制造列入考虑。Mentor Graphics与台积电密切合作，提供整合式DFM，俾使IC设计工程师设计出效能优异、可靠度佳的IC产品。

EDA技术论坛包含技术研讨和实机演练，范围涵盖电子系统层级设计的各种实际问题、功能验证、模拟及混合讯号设计与验证、可制造设计 (DFM) 和系统设计。此外，厂商展览摊位将由参与这项盛会的厂商展出最新的设计技术和工具。

诚挚邀请各位媒体朋友前来了解Mentor Graphics最新的产品以及现场的摊位展示！