罗门哈斯电子材料公司（Rohm And Haas）是成立于1909年的全球特殊材料领导供货商，全球拥有1万7000名员工，2005年并达到80亿美元的年销售额。其技术遍及各种市场领域，包括建筑及营造业、电子产品及计算机、各项硬件及通讯设备、封装、家用及个人护理产品、汽车、纸业、零售食品及超级市场、大型商业中心，以及医疗领域。

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CMP技术事业部研磨垫营销总监David Ventura指出，罗门哈斯的CMP技术事业部（前身为Rodel）?自1969年起即成为全球半导体产业的研磨技术领导者和创新厂商，其产品包括研磨垫、研磨垫调节器（conditioner）和研磨液。CMP技术总部位于美国亚利桑纳州凤凰市，业务范围遍及全球各地，公司还在美国德拉瓦州的纽瓦克（Newark, Delaware）?，以及日本的三重县和奈良县设有工厂。CMP技术事业部在CMP制程所使用的抛光垫，与抛光剂产业相当知名。此制程有助于制造今天半导体产品先进的电路系统。相关半导体产品包括DRAM、Flash与微处理器，使用范围从移动电话、iPOD到笔记本电脑与电玩主机等。

CMP技术事业部的两组新产品，包括VisionPad研磨垫系列的多款新产品，和全新的IC1000 AT系列研磨垫。这些新产品可满足先进半导体制造商持续提升化学机械研磨制程技术和生产力的要求，同时为90奈米到45奈米的研磨应用提供各种不同选择。

新产品包括多款专为先进制程而设计的VisionPad化学机械研磨垫，可进一步强化在2005年推出的VisionPad VP3100产品阵容。新研磨垫包括：VisionPad VP3200铜阻障层研磨垫，这是VP3100研磨垫系列新产品，可大幅降低缺陷率；VisionPad铜阻障层平坦化研磨垫，可利用以降低缺陷率，达到IC1000的平坦化效能；EcoVision EV4000铜阻障层研磨垫，具备低缺陷率；以及VisionPad浅沟槽隔离（STI）研磨垫，亦可利用以降低缺陷率，达到IC1000的平坦化效能。

此外罗门哈斯还推出全新的IC1000 AT系列研磨垫，这款新产品透过多项创新的研磨垫功能来降低现有高产量制程的缺陷率和持有成本。这些功能包括可缩短磨合期（break-in time）的超平坦设计、提高研磨侦测终点的稳定性（end-point）技术、可用于极端制程条件的新黏着技术，以及能够延长产品寿命、进行边缘修正（edge correction）和减少缺陷率的独家沟槽设计。

David Ventura表示，这些产品将由该公司位于台湾的亚太制造与技术中心，和在美国的现有工厂，采用六标准偏差方法的质量与流程控管来进行生产制造与提供支持。IC1000 AT化学机械研磨垫可望在2007年第一季量产，而新的VisionPad系列产品则将陆续在今年第四季和明年第一季量产。而罗门哈斯在新竹科学园区新设立的CMP Technologies亚太制造与技术中心，也预计于2006年12月开幕启用。