前言

隨著關鍵尺寸逐年縮小，疊對預算變得越來越緊縮。此外，先進刻蝕機的成本成為在非關鍵層上使用最先進的掃描式曝光機的阻礙，導致在不同的層使用不同的刻蝕機；這種做法通常被稱為「混搭」。由於每台刻蝕機各有其獨一無二的特徵，因此混搭成為產生高階疊對誤差的問題根源。與單獨一台刻蝕機作業相比，掃描式曝光機的對準效能在混搭中會降低2個係數級。在45奈米，與實際掃描式曝光機對準效能相比，疊對預算幾乎沒有餘量。

每台刻蝕機在區域失真中均有不同的特徵。即使是完美對準，刻蝕機的特徵差異也會引起疊對誤差。因此，必需採取高階校正來確保匹配。圖一顯示了區域層級匹配，但這種情況對於機台柵格也是相同的。
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