此篇訪談中,比利時微電子研究中心(imec)先進圖形化製程與材料研究計畫的高級研發SVP Steven Scheer以近期及長期發展的觀點,聚焦圖形化技術所面臨的研發挑戰與創新。
本篇訪談內容,主要講述這些技術成果的背後動力,包含高數值孔徑(high NA)極紫外光(EUV)微影技術的進展、新興記憶體與邏輯元件的概念興起,以及減少晶片製造對環境影響的需求。
怎麼看待微影圖形化這塊領域在未來2年的發展?
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