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評估工業隔離器效能的新動態共模抑制測試
 

【作者: Vincent Ching】   2013年11月04日 星期一

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長久以來,共模靜態規格已經成為測量與比較採用不同架構或技術隔離器的產業標準,然而舊的標準目前已經不再適合做為測量和比較的指標,原因是了解終端系統運作狀態下輸入與輸出變化時的共模抑制(CMR, Common Mode Rejection)效能非常重要,如果可以進一步探討隔離器所採用的技術,例如光學、磁光、電容或射頻將可以使選擇的過程更加妥善。


歷史最久並且最為完善的為使用紅外線的隔離技術,光學技術也是唯一由國際認可IEC 60747-5-5安全標準涵蓋的技術,光耦合器為允許信號於電路或系統間傳送,並保持電路或系統間電氣隔離的光電耦合半導體元件,市場上提供有單一或多通道光耦合器產品,光耦合器有時也稱為光電耦合器或光隔離器。


圖1顯示了典型光耦合器中的構成部件,通過提供足夠的絕緣厚度,可以將輸入與輸出間的寄生電容耦合降到最低,從而提高光耦合器的CMR,另外,安華高科技(Avago Technologies)更透過使用環繞光偵測器的內部法拉第屏蔽(Faraday shield)進一步強化光耦合器的CMR,這個屏蔽允許光傳輸並將其他任何電氣干擾接地。
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