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半导体虚拟量测 迈向零缺陷制造
 

【作者: 王岫晨】2026年03月23日 星期一

浏览人次:【1049】

在半导体制造迈入3奈米甚至更先进制程的今日,晶圆厂(Fab)面临着前所未有的挑战。虚拟量测技术是半导体产业从经验驱动转向数据驱动的里程碑。它不仅解决了实体量测的瓶颈,更为晶圆厂提供了制程透明度。


一片晶圆的生产周期长达数月,需经过上千道复杂工序。传统的品质控管依赖於「实体量测」(Physical Metrology),即在特定工序後,将晶圆送往量测机台(如 CD-SEM、Scatterometry)进行抽检。



图一 : 一片晶圆的生产周期长达数月,需经过上千道复杂工序。
图一 : 一片晶圆的生产周期长达数月,需经过上千道复杂工序。

半导体制造的「品质盲区」
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